膜技術和氧化結合工藝的基本原理
厚膜技術主要是指用絲網印刷的方法將導體漿料、電阻漿料或介質漿料等材料轉移到陶瓷基板上，這些材料經過高溫燒成后，會在陶瓷電路板上形成粘附牢固的膜。重復多次后，就會形成多層互連結構的包含電阻或電容的電路。
膜技術和氧化結合工藝常用的可分為三種：
1、厚膜印刷工藝：采用高網孔率絲網。此工藝的線徑會更細、目數(shù)更高、絲網的開口率更高、細線不易斷線。
2、厚膜光刻工藝：通過光刻或光致成圖技術。先燒結成膜，再光刻成圖工藝的材料通常有有機銀漿、薄印銀及無玻璃導體等；先光刻后成膜所采用的漿料因其具有光敏性，可以在經過曝光、顯影后直接成圖，省去了光刻膠步驟，且能夠提高導體線條的精度。
3、厚膜直接描繪技術：此技術主要是在CAD上進行設計，然后直接在基板上描出厚膜圖形，無需制版、制網，且該工藝下布線的線寬和間距可以精確控制，適合小批量和多品種的生產。
膜技術和氧化結合工藝的設計優(yōu)勢：
1、設備采用全自動操控模式，設備可針對廢水水量自動調節(jié)系統(tǒng)運行模式。
2、采用全自動化運行模式，無需專人控制。
3、設備采用AO污水處理工藝，故障少運行流程簡單。
4、防腐工藝采用里三外四層環(huán)氧瀝青防腐工藝，防腐壽命15年以上。
5、對與易損耗配件，設備均采用一用一備配套模式，保證使用年限。
6、內置高密度填料，設備材質采用碳鋼。
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